有網(wǎng)友問光刻機(jī)是誰發(fā)明的，今天就給大家講解一下光刻機(jī)是誰發(fā)明的。
法國人Nicephore niepce。盡管光刻機(jī)發(fā)明的時間較早，但并沒有在各行業(yè)領(lǐng)域之中被使用，直到第2次世界大戰(zhàn)時，該技術(shù)應(yīng)用于印刷電路板，所使用的材料和早期發(fā)明時使用的材料也已經(jīng)有了極大區(qū)別，在塑料板上通過銅線路制作，讓電路板得以普及，短期之內(nèi)就成為了眾多電子設(shè)備領(lǐng)域中關(guān)鍵材料之一。
光刻機(jī)：
光刻機(jī)（Mask Aligner） 又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
光刻機(jī)一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動。
A手動：指的是對準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式，是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準(zhǔn)，對準(zhǔn)精度可想而知不高了；
B半自動：指的是對準(zhǔn)可以通過電動軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧；
C自動：指的是從基板的上載下載，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機(jī)主要是滿足工廠對于處理量的需要。
以上就是光刻機(jī)是誰發(fā)明的，希望對大家有所幫助。
