有網(wǎng)友問光刻機性能指標是什么?今天就給大家講解一下光刻機性能指標是什么。
第一、光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
第二、分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。
第三、對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
第四、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。
第五、曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域，光源有汞燈，準分子激光器等。
以上就是給各位帶來的關于光刻機性能指標是什么的全部內容了。
